GEWTEC LTD.
近日，上海晰微光電技術有限公司（以下簡稱“晰微光電”）正式推出全新193nm窗口片產品。該產品針對深紫外波段光學應用場景專項優化，在193nm波長下透過率高達98%，兼具超高品質穩定性與高性價比優勢，成功突破傳統193nm光學元件的性能瓶頸，可廣泛適配半導體光刻、光譜分析、激光加工等高端精密光學領域，為全球客戶提供更具競爭力的光學解決方案。
作為精密光學領域的深耕者，晰微光電始終聚焦高端光學元件的研發與制造，依托成熟的光學冷加工與精密鍍膜核心技術，針對193nm深紫外波段的應用痛點，打造這款高性能窗口片。產品選用超高純光學基材，采用真空坩堝提純與精密拋光工藝，搭配定制化抗反射鍍膜技術，有效降低表面反射損耗，確保193nm波長下的高透傳輸，同時將雜散光抑制率控制在極高水平，保障光學系統的成像精度與信號純度。
相較于市場同類產品，晰微光電193nm窗口片具備三大核心優勢：一是高透高效，193nm波長透過率直達98%，遠超行業平均水平，大幅提升光學系統的能量利用率；二是品質可靠，基材雜質含量控制在ppb級別，表面粗糙度Ra≤0.5nm，具備優異的熱穩定性與化學惰性，可耐受復雜工況下的長期穩定運行，有效延長光學系統使用壽命；三是高性價比，依托公司自主研發的生產工藝優化，在保障高端品質的同時嚴控成本，打破高端193nm光學元件的價格壁壘，讓更多客戶可便捷獲取高性能光學解決方案。
據悉，193nm波段作為深紫外光學領域的核心應用波長，廣泛應用于半導體193nm沉浸式光刻、深紫外光譜分析、激光微加工、環境監測等關鍵場景，對光學元件的透過率、穩定性提出極高要求。晰微光電這款193nm窗口片的推出，不僅完善了公司在深紫外光學元件領域的產品布局，更憑借精準的性能適配，可直接替代同類進口產品，助力國內高端光學設備的國產化替代進程。
此次193nm窗口片的上市，是公司技術創新實力的又一重要體現。未來，公司將持續深耕精密光學領域，聚焦全球客戶的核心需求，不斷推進光學元件的技術迭代與產品升級，優化生產工藝，提升產品競爭力，為半導體、醫療、激光、科研等領域的發展提供更優質、更高效的光學支撐，致力于成為全球值得信賴的精密光學元件供應商。
目前，晰微光電193nm窗口片已完成批量生產準備，可根據客戶需求提供定制化尺寸、厚度及鍍膜方案，歡迎全球各地客戶垂詢洽談，共探精密光學領域的創新應用可能。
關于上海晰微光電技術有限公司：
上海晰微光電技術有限公司專注于精密光學元件的研發、生產與銷售，核心產品涵蓋各類光學窗口片、濾光片、透鏡等，憑借精密光學冷加工、高透鍍膜等核心技術，為半導體、醫療成像、激光系統、工業檢測、科研儀器等領域提供定制化光學解決方案，始終以“品質為先、創新驅動、客戶至上”為理念，深耕行業、精益求精，助力全球精密光學產業高質量發展。
