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三豐白光干涉測量物鏡，日本原裝進口，價格優惠，歡迎咨詢。
三豐 WLI Plan Apo 白光干涉物鏡｜Mirau 型 3D 形貌測量｜非接觸高精度檢測
三豐WLI Plan Apo 系列白光干涉物鏡，是日本三豐專為白光干涉測量（WLI） 系統打造的核心光學組件，與三豐 WLI-Unit 測頭深度配套。采用 Mirau 型干涉光路，內置分光鏡與參考鏡，標配干涉條紋調節機構，以平場復消色差、高 NA、長工作距離、小型輕量化為核心優勢，實現納米級非接觸式三維表面形貌、粗糙度、臺階高度與薄膜厚度測量，廣泛應用于半導體、精密制造、光學元件、MEMS 等高端檢測場景。
核心技術優勢：
1. Mirau 型一體化光路，即插即用
內部集成分光器與參考鏡，無需外部干涉模塊，直接適配三豐 WLI-Unit 測頭，簡化系統集成，提升測量穩定性。標配干涉條紋調節裝置，可快速校準條紋狀態，優化干涉信號，降低環境溫度影響。
2.Plan Apo 平場復消色差，全視場零畸變
采用平場復消色差設計，在整個可見光范圍內實現完美色差與場曲校正，確保從視場中心到邊緣成像均勻、無畸變，適配大尺寸工業相機，提升測量一致性。
3.寬光譜白光適配，Z 軸納米級精度
專為寬帶白光優化，利用白光短相干長度特性，實現垂直方向納米級掃描測量，Z 軸分辨率可達 4nm，高度測量精度不依賴光學倍率，低倍率下也能實現高精度檢測。
4.全倍率覆蓋，長工作距離設計
提供 1×–50× 完整倍率系列，高 NA（0.1–0.55）與長工作距離（4.5–13.2mm）兼顧，適配深槽、高臺階等復雜結構測量，齊焦距離 60mm，兼容三豐 Quick Vision WLI 等測量系統。
5.高適配性與工業級耐用
多層專業鍍膜提升干涉信號對比度，可同時適配高、低反射率樣品，無需頻繁更換物鏡。小型輕量化設計減少震動干擾，抗污染、抗反射，適配工業車間長期穩定使用。
核心參數（WLI Plan Apo 系列）
| 型號 | 放大倍率 | 數值孔徑 (NA) | 工作距離 (mm) | 齊焦距離 (mm) | 干涉類型 | 適配測頭 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| WLI Plan Apo 1× | 1× | 0.10 | 13.2 | 60 | Mirau | WLI-Unit |
| WLI Plan Apo 2.5× | 2.5× | 0.15 | 9.3 | 60 | Mirau | WLI-Unit |
| WLI Plan Apo 5× | 5× | 0.25 | 7.4 | 60 | Mirau | WLI-Unit |
| WLI Plan Apo 10× | 10× | 0.30 | 7.4 | 60 | Mirau | WLI-Unit |
| WLI Plan Apo 20× | 20× | 0.40 | 5.0 | 60 | Mirau | WLI-Unit |
| WLI Plan Apo 50× | 50× | 0.55 | 4.5 | 60 | Mirau | WLI-Unit |
典型應用場景
半導體行業：晶圓表面粗糙度、光刻膠臺階高度、薄膜厚度、微電路形貌檢測。
精密制造：精密模具、刀具、齒輪、航空航天構件的 3D 形貌與表面質量檢測。
光學元件：透鏡、棱鏡、非球面鏡、光學薄膜的面形精度與厚度測量。
MEMS 器件：微機電系統三維形貌、結構尺寸非接觸檢測。
材料科學：金屬、陶瓷、聚合物、涂層材料的表面微觀結構分析。
產品價值
高精度：納米級 Z 軸分辨率，滿足高端制造與前沿科研的嚴苛精度要求。
非接觸：無損檢測，避免樣品損傷，適配軟質、易碎、高反光樣品。
高效率：單次測量獲取完整 3D 形貌數據，適配高低反射率樣品，提升批量檢測效率。
高兼容：標準接口，無縫適配三豐 WLI-Unit 及 Quick Vision WLI 測量系統，降低集成成本。
【聯系方式】
公司名稱： 上海晰微光電技術限公司
電 話： 021-5427 0855
手 機：136 6171 6328
郵 箱： sales@gewtec.com
公司網站： www.yu0o5.cn
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